为促进我国微电子与光电子材料领域专家、学者、及企业界人士的交流与合作，提升我国微电子与光电子领域学术水平和创新能力，由集成电路材料产业技术创新战略联盟承办的中国材料大会（简称C-MRS）2016微电子与光电子分会将于2016年10月20-24日在山东青岛召开。

主要议题：

• Si、Ge、SOI、GOI、SiC和化合物半导体等衬底材料

• 用于集成电路和光电器件制造的高-k/金属栅叠层、Low-k材料、GeSi外延层、GeSn外延层、RRAM介质材料，STT-MRAM用磁性薄膜等新型薄膜材料

• 新型显示材料

• 碳纳米管，石墨烯等碳基功能材料

• 光刻胶、DSA、各类CVD和ALD前驱体、CMP抛光材料、工艺化学品、靶材等集成电路制造工艺材料

• 专用封装材料

• 材料检测技术与方法

• 材料设计理论与计算模拟