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高功率放电新特征及其应对策略
编号：181
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更新：2025-04-15 09:49:42 浏览：9次
特邀报告
报告开始：暂无开始时间（Asia/Shanghai）
报告时间：暂无持续时间
所在会场：[暂无会议] [暂无会议段]
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摘要
近年来，高功率放电成为磁控溅射技术的主流发展趋势，通过高离化高能量的等离子体沉积来提升涂层性能，进而适应日益严苛的服役环境。然而，与常规的低功率放电相比，高功率放电呈现非线性特征，影响因素复杂且稳定性差，研究难度加剧。鉴于此，本文首先开发筒内高功率放电技术，将高密度等离子体限制在筒型阴极内，避免了不稳定放电产生的金属液滴对涂层造成影响，同时利用类空心阴极效应促进电离和溅射，获得近100%的纯离子沉积。在此基础上，从阴极热极限的角度出发，提升阴极热极限开发了超大功率磁控阴极，实现了连续高功率磁控溅射技术，将功率密度极限提升至200W/cm2，实现了稳定的高离化快速沉积。针对高离化等离子体难以表征和模拟的难题，本文进一步开发了高离化虚拟磁控溅射系统，实现了对大尺寸复杂真空系统中等离子体放电、反应、溅射、输运、沉积全流程的仿真，为高功率放电的进一步推广和应用提供了理论支持和参考价值。
关键词
高功率放电,筒内放电技术,连续高功率磁控溅射技术,高离化虚拟磁控溅射系统
报告人
崔岁寒
博士后 北京大学深圳研究生院稿件作者
全部评论
重要日期
-
会议日期
05月09日
2025
至05月11日
2025
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04月23日 2025
摘要截稿日期
-
04月23日 2025
初稿截稿日期
-
08月07日 2025
报告提交截止日期
主办单位
中国机械工程学会表面工程分会
承办单位
天津大学
中国地质大学（北京）
海南大学
北京科技大学
中国地质大学（北京）
海南大学
北京科技大学
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