454 / 2022-03-15 22:49:35
Influence of interface oxidation on the electrical contact properties of C-Cu contact pairs
current-carrying friction and wear; interfacial oxidation; C/Cu contact pair; electric arc
全文录用
Qingsong Wang / southwest Jiaotong University
Zhijiang He / southwest Jiaotong University
Guoqiang Gao / southwest Jiaotong University
Hong Wang / southwest Jiaotong University
Ziran Ni / southwest Jiaotong University
受电弓-OCS系统是典型的碳铜(C-Cu)触点,这是列车能量传输的唯一途径。在载流摩擦和磨损过程中,焦耳热、摩擦热和电弧热在接触界面处积聚,促进C-Cu界面之间形成氧化膜。由于氧化膜电阻率高,接触界面之间的电流传输受阻,接触电阻上升,电弧放电频繁发生。氧化膜在电接触性能中的重要作用在滑动电接触的研究中得到了证实,但氧化膜的影响只是定性分析。目前,对界面氧化对C-Cu接触电阻和电弧放电演变的影响缺乏定量研究。

本文通过用不同厚度的氧化铜粉末涂覆表面来模拟不同氧化程度的接触界面。分析界面氧化对C-Cu触头对电接触性能的影响。结果表明,接触电阻先减小,然后随氧化膜厚度的增加而增大,而载流效率则完全相反。电弧放电的能量和持续时间略有下降,然后随着氧化膜厚度的增加而迅速增加。

在一定的氧化膜厚度范围内,膜电阻有有限的上升。但氧化膜的润滑效果可以有效降低界面附着力和犁磨损,界面粗糙度明显降低。通过电流的接触点数量明显增加,收缩电阻迅速下降,导致接触电阻呈下降趋势。但是,当氧化膜厚度超过一定程度时,膜电阻迅速增加,严重阻碍了电流的传输。加剧的排放侵蚀导致界面粗糙度迅速上升。最后,接触电阻显著增加。


 
重要日期
  • 会议日期

    09月25日

    2022

    09月29日

    2022

  • 08月15日 2022

    提前注册日期

  • 09月10日 2022

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  • 11月10日 2022

    注册截止日期

  • 11月30日 2022

    初稿截稿日期

  • 11月30日 2022

    终稿截稿日期

主办单位
IEEE DEIS
承办单位
Chongqing University
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