摘要详情
  1. 活动首页
  2. 摘要清单
  3. 摘要详情
90 / 2021-04-01 10:01:11
量子点膜用阻隔膜制备技术研究进展——时间要求紧迫发表
量子点膜； 高阻隔膜 ；有机/无机多层膜
13、其它表面工程相关研究
全文录用
秦丽丽 / 兰州空间技术物理研究所
量子点膜用高阻隔膜产品是量子显示封装技术的关键产品，高阻隔膜的制备技术决定着阻隔膜产品性能特性。本文通过分析量子点膜用高阻隔膜产品性能指标，总结热蒸发、化学气相沉积、原子层沉积等制备柔性高阻隔薄膜的方法、原理、特点及应用，展望量子点膜用阻隔膜产品的发展前景。研究表明量子点膜用高阻隔薄膜制备工艺趋向于有机/无机多层结构的超高阻复合薄膜，是快速、高效、批量化制备量子点膜用高阻隔封装薄膜的发展趋势。
重要日期

  • 会议日期

    05月14日

    2021

    至

    05月16日

    2021

  • 04月25日 2021

    提前注册日期

  • 05月10日 2021

    初稿截稿日期

  • 05月16日 2021

    注册截止日期

主办单位
中国机械工程学会表面工程分会
承办单位
扬州大学机械工程学院
智能制造装备江苏省重点产业学院
协办单位
国家自然科学基金委工程与材料学部
联系方式
登录查看完整联系方式
历届会议
移动端
在手机上打开
小程序
打开微信小程序
客服
扫码或点此咨询