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用于蓝宝石晶片加工的冷却液润滑性对晶片表面质量影响研究

LED 芯片作为蓝宝石的第一大应用领域，对蓝宝石行业发展有重要影响。LED 材料的生长需要在衬底上制作氮化镓（GaN）基的外延片，这一生长过程主要是在金属有机化学气相沉积外延炉（MOCVD）中完成，常用的衬底主要有蓝宝石、碳化硅和硅衬底，蓝宝石材料凭借外延晶格匹配良好、性价比高的优势占据衬底材料绝对主流地位。蓝宝石晶片的质量好坏对氮化镓外延片生长质量以及蓝光二极管性能和成品率有很大影响。高品质LED产品的首选是首先要保证衬底基片的质量。蓝宝石通过切片、倒角、研磨、表面平坦化以及表面处理技术将蓝宝石晶棒加工成所需精度的窗口片、基片等。切片是蓝宝石加工的初步阶段也是对后续晶片质量影响最关键的步骤之一。本研究工作主要考察了不同分子结构的润滑剂,分散剂对晶片表面质量TTV值，WARPZ值，BOW值的规律性影响。