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等离子喷涂-物理气相沉积功能陶瓷涂层研究
编号：155 访问权限：仅限参会人 更新：2020-10-19 16:12:20 浏览：519次 特邀报告

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摘要
等离子喷涂-物理气相沉积（PS-PVD）技术因其良好的涂层结构调控能力，在制备柱状结构热障涂层、致密陶瓷涂层方面有着非常广阔的应用前景，成为当前的研究热点。本文阐述了等离子喷涂-物理气相沉积的原理，重点介绍了采用等离子喷涂-物理气相沉积技术的几种应用场景，包括具有柱状结构的YSZ、GZO热障涂层；高致密透氧膜、环境障涂层以及特种结构的NiO功能陶瓷涂层。研究认为，PS-PVD技术可在大面积工件表面高效制备性能优异的特种功能陶瓷涂层，而其非视线沉积特点将使其在工业领域能够快速实现工程化应用，应用前景广阔。
 
关键词
等离子喷涂-物理气相沉积；功能陶瓷涂层
报告人
春明邓
广东省科学院新材料研究所

子谦邓
广东省科学院新材料研究所

牛少鹏
广东省科学院新材料研究所

琛宋
广东省科学院新材料研究所

亚鹏张
广东省科学院新材料研究所

张小锋
广东省科学院新材料研究所

毛杰
广东省科学院新材料研究所

敏刘
广东省科学院新材料研究所

稿件作者
邓春明 广东省科学院新材料研究所
邓子谦 广东省科学院新材料研究所
牛少鹏 广东省科学院新材料研究所
琛宋 广东省科学院新材料研究所
张亚鹏 广东省科学院新材料研究所
张小锋 广东省科学院新材料研究所
毛杰 广东省科学院新材料研究所
敏刘 广东省科学院新材料研究所
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重要日期

  • 会议日期

    11月13日

    2020

    至

    11月16日

    2020

  • 10月31日 2020

    提前注册日期

  • 11月05日 2020

    初稿截稿日期

  • 11月16日 2020

    注册截止日期

主办单位
中国机械工程学会表面工程分会
承办单位
广东省新材料研究所
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
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